METAL HEATER는 빠르고 균일한 가열로 인해 정밀한 온도 조절이 가능하여 중-저온의 다양한 막질 처리 등에 사용됩니다.
operating temperature
Al < 450℃
characteristics
thermal conductivity
high
temperature uniformity
good
Temperature Control Precision
EXCELLENT
application
Chemical Vapor Deposition(CVD)
Atomic Layer Deposition (ALD)
Ashing
types & sizes
Block Heaters
sizes
150mm
200mm
Pedestal Heaters
sizes
150mm
200mm
300mm
Coating Technology
다양한 표면처리를 통해 내식성, 내구성 등을 구현
AlFx
Rapid Thermal Processing (RTP)
Lamphousing
overview
RTP LAMP HOUSING은 실리콘 웨이퍼를 단 몇 초의 짧은 시간 내 1,000°C 이상으로 가열하는 공정에 사용됩니다. 할로겐(또는 텅스텐-할로겐) 램프로 생성된 적외선을 집광렌즈 통해 웨이퍼에 순간적으로 전달합니다. 가열 후에는 웨이퍼를 서냉시켜 Thermal Shock를 방지합니다.